PVD电镀，即 物理气相沉积（Physical Vapor Deposition），是一种在真空条件下利用物理方法将材料沉积到工件表面形成薄膜的技术。它主要包括以下几种类型：
真空蒸发镀膜：
通过加热使材料蒸发，并在真空环境中冷凝形成薄膜。
真空溅射镀膜：
使用高能离子束溅射靶材，将靶材材料沉积到工件表面。
真空离子镀膜：
在真空条件下通过电弧放电使靶材蒸发并电离，利用电场加速沉积到工件表面。
PVD电镀技术具有以下特点：
高硬度：镀层具有高硬度，适用于需要高耐磨性的场合。
优异的附着力：镀层与基材之间的附着力强，不易脱落。
良好的耐腐蚀性：镀层具有优异的耐腐蚀性和化学稳定性。
环保：PVD电镀过程中不使用有害化学物质，对环境无害。
美观：能够形成多种颜色的镀层，且颜色持久不褪。
PVD电镀技术广泛应用于高档五金件、手表表壳、电子元件等领域，能够提高产品的外观装饰性能和耐用性。
